國際簡稱:IEEE T PLASMA SCI 參考譯名:IEEE Transactions On Plasma Science
主要研究方向:物理:流體與等離子體-物理 非預警期刊 審稿周期: 約3.7個月
《IEEE Transactions On Plasma Science》(Ieee Transactions On Plasma Science)是一本由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版的以物理:流體與等離子體-物理為研究特色的國際期刊,發表該領域相關的原創研究文章、評論文章和綜述文章,及時報道該領域相關理論、實踐和應用學科的最新發現,旨在促進該學科領域科學信息的快速交流。該期刊是一本未開放期刊,近三年沒有被列入預警名單。
The scope covers all aspects of the theory and application of plasma science. It includes the following areas: magnetohydrodynamics; thermionics and plasma diodes; basic plasma phenomena; gaseous electronics; microwave/plasma interaction; electron, ion, and plasma sources; space plasmas; intense electron and ion beams; laser-plasma interactions; plasma diagnostics; plasma chemistry and processing; solid-state plasmas; plasma heating; plasma for controlled fusion research; high energy density plasmas; industrial/commercial applications of plasma physics; plasma waves and instabilities; and high power microwave and submillimeter wave generation.
CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 指數 | ||||||||||||
3 | 0.417 | 0.861 |
|
名詞解釋:CiteScore 是衡量期刊所發表文獻的平均受引用次數,是在 Scopus 中衡量期刊影響力的另一個指標。當年CiteScore 的計算依據是期刊最近4年(含計算年度)的被引次數除以該期刊近四年發表的文獻數。例如,2022年的 CiteScore 計算方法為:2022年的 CiteScore =2019-2022年收到的對2019-2022年發表的文件的引用數量÷2019-2022年發布的文獻數量 注:文獻類型包括:文章、評論、會議論文、書籍章節和數據論文。
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 | ||
否 | 否 | 物理與天體物理 | 4區 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 4區 |
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 | ||
否 | 否 | 物理與天體物理 | 3區 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 4區 |
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 | ||
否 | 否 | 物理與天體物理 | 3區 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 4區 |
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 | ||
否 | 否 | 物理 | 4區 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 4區 |
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 | ||
否 | 否 | 物理與天體物理 | 3區 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 4區 |
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否 | 否 | 物理與天體物理 | 3區 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 4區 |
按JIF指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q3 | 29 / 40 |
28.7% |
按JCI指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q3 | 30 / 40 |
26.25% |
Author: Xu, Qianglin; Song, Zhiquan; Li, Hua; Xu, Meng; Zhang, Xining; Li, Zhenhan
Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2023; Vol. , Issue , pp. -. DOI: 10.1109/TPS.2023.3265082
Author: Zhang, Lijing; Sheng, Gehao; Hou, Huijuan; Zhou, Nan; Song, Hui; Jiang, Xiuchen
Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2023; Vol. 51, Issue 1, pp. 15-25. DOI: 10.1109/TPS.2022.3224914
Author: Jin, ShaoHui; Nie, LanLan; Liu, DaWei; Lu, XinPei
Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2023; Vol. 51, Issue 1, pp. 60-65. DOI: 10.1109/TPS.2022.3225319
Author: Huang, Qili; Sun, Dimin; Hu, Linlin; Zhuo, Tingting; Hu, Peng; Jiang, Yi; Zhang, Luqi; Hu, Xinrui; Ma, Guowu; Chen, Hongbin; Jin, Xiao
Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2023; Vol. 51, Issue 1, pp. 77-82. DOI: 10.1109/TPS.2022.3226179
Author: Zang, Yinxiang; Jia, Min; Zhang, Zhibo; Cui, Wei
Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2023; Vol. 51, Issue 1, pp. 127-139. DOI: 10.1109/TPS.2022.3227016
Author: Wang, Xu-Cheng; Gao, Shu-Han; Zhang, Yuan-Tao
Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2023; Vol. 51, Issue 1, pp. 49-59. DOI: 10.1109/TPS.2022.3225240
Author: Jiang, Song; Li, Ang; Wang, Yonggang; Li, Zi; Rao, Junfeng; Wu, Zhonghang
Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2023; Vol. 51, Issue 1, pp. 177-183. DOI: 10.1109/TPS.2022.3225929
Author: Zhou, Lin; Ye, Mingtian; Lu, Jian; Meng, Shijian; Ye, Fan; Jiang, Shuqing; Yi, Qiang; Yan, Xiaosong; Yang, Ruihua; Li, Zhenghong
Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2023; Vol. 51, Issue 1, pp. 193-198. DOI: 10.1109/TPS.2022.3227331
Infrared Physics & Technology
中科院 3區 JCR Q2
Advanced Quantum Technologies
中科院 2區 JCR Q1
Apl Photonics
中科院 1區 JCR Q1
Acta Photonica Sinica
中科院 4區 JCR Q4
Photonic Sensors
中科院 2區 JCR Q1
Optics Express
中科院 2區 JCR Q2
Prx Quantum
中科院 1區 JCR Q1
Machine Learning-science And Technology
中科院 2區 JCR Q1
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